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      PI烘箱,厭氧烘箱 工業(yè)烘箱
      PI烘箱,厭氧烘箱 工業(yè)烘箱

      PI烘箱,厭氧烘箱固相亞胺化常用于PI薄膜的制備即將PAA溶液澆鑄成膜后加熱進行亞胺化溶液亞胺化是在PAA溶液中加入共沸溶劑加熱回流通過共沸溶劑的蒸出帶出反應過程中產(chǎn)生的水促進反應進一步進行。

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      智能型無塵無氧烘箱,高溫無塵 無氧化烘箱 烘箱設(shè)備
      智能型無塵無氧烘箱,高溫無塵 無氧化烘箱 烘箱設(shè)備

      智能型無塵無氧烘箱,高溫無塵 無氧化烘箱又稱為PI固化烘箱,厭氧烘箱,高溫無氧烘箱,用于PI、BCB膠高溫固化、LCP熱處理烘烤、光刻膠固化等電子,半導體、新材料行業(yè)。

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      高溫氮氣真空烤箱,400度無氧烘箱
      高溫氮氣真空烤箱,400度無氧烘箱

      高溫氮氣真空烤箱,400度無氧烘箱用于鍵合材料的真空預處理 、光刻膠固化、堅膜,BCB固化、ITO膜退火,PI(聚酰亞胺)固化等工藝

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      氮氣真空無氧烘箱,高溫無氧真空烘箱
      氮氣真空無氧烘箱,高溫無氧真空烘箱

      氮氣真空無氧烘箱,高溫無氧真空烘箱用于鍵合前鍵合材料的真空固化 、LCP膜熱處理,BCB/PI膠固化等工藝。 廣泛應用于半導體、電子產(chǎn)品、新材料、醫(yī)療衛(wèi)生等行業(yè),適用于工廠、高等院校、科研等場所。

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      真空無氧烘箱,PI固化厭氧烤箱
      真空無氧烘箱,PI固化厭氧烤箱

      真空無氧烘箱,PI固化厭氧烤箱用于PI/BCB/LCP固化,半導體封裝等。 溫度范圍:RT+30~450℃; 溫度波動度:±1℃; 溫控精度:0.1℃; 氧濃度:10ppm 真空度:100pa

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      LCP膜專用高溫無氧烘箱-工業(yè)烘箱
      LCP膜專用高溫無氧烘箱-工業(yè)烘箱

      LCP膜專用高溫無氧烘箱LCP薄膜需要進行厚度組織重整及配套的熱處理優(yōu)化,才能滿足高頻高速服役環(huán)境下的性能要求.

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      濕敏薄膜專用高溫無氧烘箱-工業(yè)烘箱
      濕敏薄膜專用高溫無氧烘箱-工業(yè)烘箱

      濕敏薄膜專用高溫無氧烘箱將基底溶液聚酰胺酸懸涂在制備有犧牲層的載體硅片上,采用MEMS工藝制作濕度敏感單元,本文制作的濕度傳感器采用“三明治”結(jié)構(gòu),包括上電極、感濕層和下電極,上下電極均采用蒸鍍工藝,蒸鍍金作為電極;感濕膜為聚酰亞胺材料,采用旋涂的方法制備感濕層

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